ニュースの要約
- プロの背景モデラーが「良いテクスチャは良いベイクから」というセミナーを開催
- ベイクの落とし穴から原因と対処法、設計の考え方を解説
- 背景モデラーの視点からワンランク上のアセット制作を目指す
概要
株式会社クリーク・アンド・リバー社（C&R社）は6月20日（金）、3DCGクリエイターを対象に無料のオンラインセミナー「ポリゴンナイト～良いテクスチャは、良いベイクから～ プロの背景モデラーが教える！ 現象→原因→設計で学ぶ、ベイクエラーに強くなるセミナー」を開催します。
リアルタイムで処理すると重くなるような情報（光の当たり方、影、法線など）を事前に計算してテクスチャやマップに保存する処理を指す「ベイク」。今やSubstance Painterなどのツールで、プロシージャルにテクスチャを構築するのが主流となりました。しかし、このベイクが”なんとなく”で済まされていると、どれだけいいツールを使ってもクオリティは伸び悩みます。
本セミナーでは、C&R Creative Studiosの３DCG専門開発スタジオ「COYOTE 3DCG STUDIO」より3名のクリエイターが講師を務めます。経験者でもやりがちなベイクの落とし穴から、トラブルの原因と対処法、そして「なぜそうするのか？」という設計の考え方まで、背景モデラーの視点でわかりやすく解説します。「なんとなくベイク」を卒業して、ワンランク上のアセット制作をめざしませんか。
編集部の感想
編集部のまとめ
ベイクエラーに強くなるセミナー：プロの背景モデラーが教える!良いテクスチャは良いベイクから!?6/20（金）「現象→原因→設計で学ぶ、ベイクエラーに強くなるセミナー」開催（東京都港区）についてまとめました
今回のセミナーは、3DCGクリエイターにとって非常に重要なテーマである「ベイク」について、プロの背景モデラーの視点から解説されるものです。
ベイクの原理やメカニズムから、具体的なエラーの原因と対処法、そして設計の考え方まで、幅広く学べる内容になっています。特に経験者でも陥りがちなピットフォールを学べるのは大きなメリットですね。
また、現場で活躍するクリエイターが講師を務めるため、理論だけでなく現場の生の声も聞けるのも魅力的です。「なんとなくベイク」からワンランク上のアセット制作を目指したい3DCGクリエイターにとって、非常に貴重な機会だと思います。
参照元：https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000004153.000003670.html
