AndTech：リソグラフィ・レジスト/EUVレジストの基礎とトラブル対策および最新のロードマップと先端デバイスの動向

ニュースの要約

• AndTechが5月22日にリソグラフィ・レジスト/EUVレジストの基礎とトラブル対策、最新のロードマップと先端デバイスの動向についてのZoomセミナー講座を開講予定
• 講師はEリソリサーチ代表の遠藤政孝氏
• リソグラフィの基礎からEUVレジストの詳細、トラブル対策などを網羅的に解説

この記事を読んでいる人におすすめ【PR】

記事の途中ですが編集部おすすめのサービスをご紹介します。

2PLAY	ライバー・声優・タレント・VTuberと一緒にゲームを楽しめる、ゲームマッチングサービス	登録 PR
PLUSMATE	AI彼氏とリアルな恋愛体験ができる新感覚のチャットサービス。あなた返信に合わせ、態度や感情がリアルに変化。	登録 PR
ニジカレ	声優によるボイス付き＆AIがシンクロした女性向けリアルチャット恋愛ゲーム	登録 PR
サブカレ	AIチャット特化型の女性向け自由恋愛ゲーム	登録 PR

概要

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せるリソグラフィ・レジスト／EUVレジストでの課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「リソグラフィ・レジスト／EUVレジスト 基礎・トラブル対策」講座を開講します。

本講演では、リソグラフィの基礎を解説した後、デバイスの微細化を支えるレジストの基礎をEUVレジスト（化学増幅型EUVレジスト、EUVネガレジストプロセス、EUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセス）の詳細を含めて述べます。レジスト、先端リソグラフィのトラブル対策をその要求特性、課題をふまえて解説します。EUVレジストの課題と対策についても述べます。最新のロードマップと先端デバイスの動向を解説し、今後のレジストの技術展望、市場動向についてまとまめます。

編集部の感想

• リソグラフィ技術は半導体産業において重要な技術ですね。その基礎から最新動向まで網羅的に学べる良い機会だと思います。
• EUVレジストについての詳細な解説が特に興味深いです。次世代の微細化を支える技術の動向が掴めそうです。
• トラブル対策の講義も実践的で役立つと感じました。デバイス開発の現場で悩む課題の解決につながりそうです。

編集部のまとめ

AndTech：リソグラフィ・レジスト/EUVレジストの基礎とトラブル対策および最新のロードマップと先端デバイスの動向についてまとめました

AndTechが開催するこのZoomセミナーは、半導体産業において重要なリソグラフィ技術の基礎から、EUVレジストなどの最新動向まで網羅的に学べる良い機会だと感じました。特にEUVレジストの詳細な解説や、トラブル対策の講義は実践的で、デバイス開発の現場で悩む課題の解決につながると思います。今後のレジスト技術の展望やデバイス動向の理解も深められそうです。半導体分野で活躍する方にとって大変有益なセミナーだと評価できます。

参照元：https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000001116.000080053.html

おすすめマッチングアプリ比較【PR】

編集部おすすめのマッチングアプリをご紹介します。

PCMAX	20年以上の老舗運営、無料・少ない課金でも楽しめる	登録   18歳未満利用禁止
ハッピーメール	国内最大級の会員数。地方でも相手を見つけやすい。	登録   18歳未満利用禁止
イククル	アクティブ率が高く、プロフィール閲覧が無料で始めやすい。	登録   18歳未満利用禁止
ワクワクメール	「今日会いたい」掲示板で即日出会いにも強い。	登録   18歳未満利用禁止